日本爾必達公司今天宣布,公司已經完成50nm制程DDR3 SDRAM的開發工作。該顆粒創下多項業界第一,如全球最節能,封裝體積最小,同時實現了2.5Gbps的高速度和1.2V的低電壓。 該DDR3顆粒採用了193nm浸潤式光刻技術制造,單顆芯片面積不到40平方毫米。除支持DDR3內存標准的1.5V電壓外,還可支持1.35V或1.2V的低電壓工作,功耗比70nm制程產品降低50%以上。數據傳輸率有800Mbps、1066Mbps、1333Mbps、1600Mbps、1866Mbps、2133Mbps和2500Mbps多檔。
爾必達表示,採用50nm制程的DDR3顆粒將于明年第一季度開始量產。公司同時還宣布使用50nm工藝,開發針對高端消費電子產品的Mobile RAM存儲芯片產品。

http://financenews.sina.com/sinacn/304-000-106-109/2008-11-26/0009962760.html |